針對半導體制造中的關鍵挑戰，我們提供專業的流體測量與控制解決方案
傳統流量計無法滿足超純水的高精度測量要求，導致晶圓清洗工藝不穩定
高純度、腐蝕性特種氣體的精確計量和控制是半導體工藝的難點
化學機械拋光(CMP)和蝕刻工藝對藥液配比精度要求極高
部分半導體工藝需要在高溫高壓環境下運行，對設備穩定性要求極高
采用特殊材料和設計，確保超純水測量精度達到±0.5%
耐腐蝕設計，適用于各種特種氣體，控制精度高達±1%
高精度計量泵確保化學藥液配比精度，提高工藝一致性
特殊材質和結構設計，確保在極端工況下的長期穩定運行
適用于半導體制造的產品與控制系統
我們的工程師將在24小時內聯系您，提供專業的產品選型建議和技術支持
